Be Part of the Ultimate Safety & Compliance Community
Trending news, knowledge-building content, and more – all personalized to you!
Process type/sub-type | Process gas i | ||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
CF4 | C2F6 | CHF3 | CH2F2 | C2HF5 | CH3F | C3F8 | C4F8 | NF3 | SF6 | C4F6 | C5F8 | C4F8O | |
Notes: NA = Not applicable; i.e., there are no applicable default emission factor measurements for this gas. This does not necessarily imply that a particular gas is not used in or emitted from a particular process sub-type or process type. | |||||||||||||
Etching/Wafer Cleaning | |||||||||||||
1-Ui | 0.81 | 0.72 | 0.51 | 0.13 | 0.064 | 0.70 | NA | 0.14 | 0.19 | 0.55 | 0.17 | 0.072 | NA |
BCF4 | NA | 0.10 | 0.085 | 0.079 | 0.077 | NA | NA | 0.11 | 0.0040 | 0.13 | 0.13 | NA | NA |
BC2F6 | 0.046 | NA | 0.030 | 0.025 | 0.024 | 0.0034 | NA | 0.037 | 0.025 | 0.11 | 0.11 | 0.014 | NA |
BC4F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC4F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC5F8 | 0.0012 | NA | 0.0012 | NA | NA | NA | NA | 0.0086 | NA | NA | NA | NA | NA |
BCHF3 | 0.10 | 0.047 | NA | 0.049 | NA | NA | NA | 0.040 | NA | 0.0012 | 0.066 | 0.0039 | NA |
Chamber Cleaning | |||||||||||||
In situ plasma cleaning: | |||||||||||||
1-Ui | 0.92 | 0.55 | NA | NA | NA | NA | 0.40 | 0.10 | 0.18 | NA | NA | NA | 0.14 |
BCF4 | NA | 0.21 | NA | NA | NA | NA | 0.20 | 0.11 | 0.050 | NA | NA | NA | 0.13 |
BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.045 |
BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
Remote plasma cleaning: | |||||||||||||
1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.017 | NA | NA | NA | NA |
BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.015 | NA | NA | NA | NA |
BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
In situ thermal cleaning: | |||||||||||||
1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
[75 FR 74829, Dec. 1, 2010; 78 FR 68222, Nov. 13, 2013; 81 FR 89255, Dec. 9, 2016]